一、晶間腐蝕簡(jiǎn)介：

晶間腐蝕是金屬局部腐蝕的一種，通常出現(xiàn)于不銹鋼、鋁合金、黃銅和鎳基合金等材料中。晶間腐蝕是沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴(kuò)展的腐蝕。晶間腐蝕的原因是晶粒表面和內(nèi)部間化學(xué)成分的差異以及晶界雜質(zhì)或內(nèi)應(yīng)力的存在。

晶間腐蝕會(huì)破壞晶粒間的結(jié)合，大幅降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。晶間腐蝕發(fā)生后，金屬和合金的表面雖然仍保持一定的金屬光澤，看不出被破壞的跡象，但晶粒間結(jié)合力顯著減弱，力學(xué)性能惡化。由此可見(jiàn)，晶間腐蝕是一種很危險(xiǎn)的腐蝕。本儀器是專(zhuān)用于評(píng)價(jià)材料的晶間腐蝕性能的儀器。

二、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

ICT-4晶間腐蝕儀是專(zhuān)門(mén)應(yīng)用于不銹鋼的晶間腐蝕的專(zhuān)用設(shè)備，用于檢驗(yàn)各種類(lèi)型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的溫度和腐蝕試劑下晶間腐蝕的狀況，從而判定材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。ICT-4晶間 腐蝕儀滿(mǎn)足國(guó)標(biāo)GB/T 4334-2020和美標(biāo)ASTM A262-2015。

ICT-4晶間 腐蝕儀由加熱部分、控制部分以及冷卻部分組成。設(shè)備配有四個(gè)加熱底座，可同時(shí)對(duì)四個(gè)燒杯進(jìn)行加熱，溫度可通過(guò)控制部分任意設(shè)置。水蒸氣通過(guò)冷卻后可以自動(dòng)回流到燒杯內(nèi)，從而減少因水汽蒸發(fā)引起的試劑濃度變化。工作時(shí)，可將處理后試樣按照上述方法放入燒杯，配制符合標(biāo)準(zhǔn)要求的試劑，將溫度調(diào)整到規(guī)定溫度，加熱到規(guī)定時(shí)間后取出試樣即可。

觸摸屏操作界面

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

ICT-4晶間腐蝕儀滿(mǎn)足國(guó)標(biāo)GB/T 4334-2008和美標(biāo)ASTM A262-2015中的試驗(yàn)(A法選配)。

PLC和PID控制，水溫始終控制在設(shè)定溫度，實(shí)現(xiàn)設(shè)定溫度下長(zhǎng)時(shí)間的腐蝕過(guò)程，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠。

觸摸屏顯示操作界面，操作簡(jiǎn)單、參數(shù)設(shè)定方便直觀。

可同時(shí)腐蝕4個(gè)試樣。

無(wú)須外部水源(選件)，循環(huán)冷卻水控制熱酸液自動(dòng)回流至燒杯，減少酸液濃度變化。

冷卻水不足或者發(fā)生故障時(shí)，系統(tǒng)自動(dòng)報(bào)警并停止加熱。

假如突發(fā)停電后再來(lái)電后，腐蝕試驗(yàn)繼續(xù)進(jìn)行，腐蝕時(shí)間在停電前的時(shí)間計(jì)數(shù)上繼續(xù)累記計(jì)時(shí)。

晶間 腐蝕儀的總功率2000W。

每個(gè)單獨(dú)工位的功率為500W，獨(dú)立控制，方便操作。

一般設(shè)置在280℃-320℃左右，溶液就沸騰了，然后可以開(kāi)始降溫，在240℃-260℃之前溶液一直是微沸的即可，最高溫度可達(dá)到400℃（不建議長(zhǎng)時(shí)間用最高溫度工作，影響加熱盤(pán)壽命）。

四、標(biāo)準(zhǔn)配置：